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गर्मी सिंक ठंडा सिलिकॉन नाइट्राइड सिरेमिक सब्सट्रेट वेफर
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गर्मी सिंक ठंडा सिलिकॉन नाइट्राइड सिरेमिक सब्सट्रेट वेफर

    भुगतान प्रकार: L/C,T/T,D/P,Paypal,Money Gram,Western Union
    Incoterm: FOB
    Min. आदेश: 1 Piece/Pieces
    प्रसव के समय: 15 दिनों

बुनियादी जानकारी

मॉडल नं.: Si3N4 116

प्रकार: प्लेट

सामग्री: चिकनी मिट्टी

अंदाज: पश्चिमी

प्रयोग: शादी, व्यापार उपहार, रोज के इस्तेमाल के, गार्डन सजावट, घर की सजावट

फ़ीचर: चीनी

प्रसंस्करण: ढलाई

रंग: सफेद

आकार: गोल

आयु: आधुनिक

सतह सजावट: चमकता हुआ

Material: Alumina Ceramic

Color: White/Ivory

Size: Customized

Application: Machinery, Industry, Medical, Aerospace Etc.

Additional Info

पैकेजिंग: स्वनिर्धारित

ब्रांड: कठिन

परिवहन: Ocean,Land,Air

उद्गम-स्थान: गुआंग्डोंग, चीन

आपूर्ति की क्षमता: 1,000,000 pcs/Month

प्रमाण पत्र: SGS

बंदरगाह: Shenzhen

उत्पाद विवरण

गर्मी सिंक ठंडा सिलिकॉन नाइट्राइड सिरेमिक सब्सट्रेट वेफर

प्रतिष्ठा गुणवत्ता पर निर्भर करती है, गुणवत्ता हार्ड से आती है!


सिलिकॉन नाइट्राइड सिरेमिक:

एनोडाइज्ड फिल्म दो परतों से बनी होती है, और झरझरा मोटी बाहरी परत को ढांकता हुआ आंतरिक परत पर उगाया जाता है, और बाद वाले को बाधा परत कहा जाता है (इसे एक सक्रिय परत भी कहा जाता है)। इलेक्ट्रॉन माइक्रोस्कोपी द्वारा अवलोकन से पता चला है कि फिल्म परत के अनुदैर्ध्य और पार्श्व चेहरे लगभग सभी को धातु की सतह पर लंबवत छेद दिखाते हैं, जो फिल्म की बाहरी परत को ऑक्साइड फिल्म और धातु इंटरफ़ेस के बीच बाधा परत तक पहुंचाता है। झरझरा एल्यूमिना घने एल्यूमिना द्वारा घिरा हुआ है एक छत्ते की हेक्सागोनल बॉडी को एक यूनिट सेल कहा जाता है, और पूरी फिल्म परत ऐसी यूनिट कोशिकाओं के असंख्य से बना है। बाधा परत निर्जल एल्यूमीनियम ऑक्साइड से बना है, जो पतला और घना है, इसमें उच्च कठोरता है और विद्युत प्रवाह के पारित होने से रोकता है। बाधा परत की मोटाई लगभग 0.03-0.05 माइक्रोन है, जो कुल फिल्म के बाद 0.5% से 2.0% है। ऑक्साइड फिल्म की झरझरा बाहरी परत मुख्य रूप से अनाकार एल्यूमिना और हाइड्रेटेड एल्यूमिना की एक छोटी मात्रा से बना है, और आगे इलेक्ट्रोलाइट का एक उद्धरण है। जब इलेक्ट्रोलाइट सल्फ्यूरिक एसिड होता है, तो फिल्म परत में सल्फेट सामग्री सामान्य रूप से 13% -17% होती है। ऑक्साइड फिल्म के अधिकांश उत्कृष्ट गुण छिद्र बाहरी परत की मोटाई और छिद्र द्वारा निर्धारित किए जाते हैं, और वे सभी एनोडाइजिंग स्थिति से निकटता से संबंधित हैं। Anodizing को वर्तमान रूपों में विभाजित किया गया है: प्रत्यक्ष वर्तमान anodization, बारी-बारी से वर्तमान anodization, और पल्स वर्तमान anodization। इलेक्ट्रोलाइट के अनुसार, मुख्य समाधान के रूप में सल्फ्यूरिक एसिड, ऑक्सालिक एसिड, क्रोमिक एसिड, मिश्रित एसिड और सल्फ्यूरैजिक एसिड के प्राकृतिक एनोडिक ऑक्सीकरण होते हैं। फिल्म परत के अनुसार, एक आम फिल्म, एक हार्ड फिल्म (मोटी फिल्म), एक चीनी मिट्टी के बरतन फिल्म, एक उज्ज्वल संशोधन परत, और अर्धचालक कार्रवाई के लिए एक बाधा परत जैसे एनोडिज़ेशन हैं। एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातुओं के लिए सामान्य एनोडाइजिंग तरीके और प्रक्रिया की स्थिति तालिका -5 में दर्शाई गई है। उनमें से, प्रत्यक्ष वर्तमान सल्फ्यूरिक एसिड एनोडाइजेशन का आवेदन आम है।
Si3N4 chip

गुण :

उच्च कठोरता, उच्च शक्ति, पहनने के प्रतिरोध, संक्षारण प्रतिरोध, उच्च तापमान (1200 ° ), अच्छा तापीय प्रसार, अच्छा तापीय आघात प्रतिरोध ( तेजी से बदलते तापमान से बचना ), अच्छा अतृप्ति, कम घनत्व। अधिकांश संरचना सिरेमिक में व्यापक गुण सर्वोत्तम हैं।


डेटा शीट ↓

रंग: काला ग्रे
घनत्व: / 3.2 जी / सेमी 3
कठोरता: HRA90
विकर्स कठोरता (Hv50): HV 1550 HV0.5
लोच का मापांक: 290Gpa
लचीली ताकत: M 600Mpa
कंप्रेसिव स्ट्रेंथ: 2500Mpa
लोच का मापांक (25 ° C): 65Gpa
फ्रैक्चर क्रूरता: tough 6.0 Mpam1 / 2
अधिकतम उपयोग तापमान: 1200 डिग्री सेल्सियस
थर्मल चालकता: 15-20 W (mK)
थर्मल विस्तार गुणांक: fficient 3.1 10-6 / ° C
थर्मल शॉक प्रतिरोध: 500 ° T ° C
विशेष ताप क्षमता: 700 KJ / kg.K
ढांकता हुआ ताकत: 1 केवी / मिमी
ढांकता हुआ लगातार: एर
वॉल्यूम प्रतिरोधकता (20 डिग्री सेल्सियस): 1.0 * 10 (12) °.cm

आवेदन उद्योग :

मशीनरी, इलेक्ट्रॉनिक, अर्धचालक, रसायन, पेट्रोलियम, गलाना।


विशिष्ट आवेदन:

वेल्डिंग शाफ्ट, इलेक्ट्रॉनिक सब्सट्रेट, प्लंजर, नोजल, स्लाइड गाइड, डीजल भागों, धातु मोल्डिंग, शाफ्ट पहियों आदि।


हमारा चयन क्यों?
1.12 साल के व्यावसायिक उत्पादन औद्योगिक सिरेमिक कारखाने हैं
2. उच्च गुणवत्ता वाले उत्पादों के साथ कम कीमत है
3. उच्च परिशुद्धता भागों के साथ सबसे कम सहिष्णुता है
4. उत्पादन के लिए कम से कम समय
5. अनुभवी, पेशेवर और कुशल आर एंड डी टीम का एक समूह है
6. चीन और विदेशों में एक अच्छी प्रतिष्ठा है।

7.MOQ सीमित नहीं है, छोटी मात्रा का स्वागत है।

8. मजबूत टीम और अच्छी बिक्री के बाद सेवा


उत्पाद दिखाएँ

silicon nitride



Manufacturing Process


सामान्य प्रश्न

प्रश्न: आप ट्रेडिंग कंपनी या निर्माता हैं?
एक: हम कारखाने हैं।

क्यू: कब तक अपने प्रसव के लिए समय है?
एक: आम तौर पर यह 5-10 दिनों का है अगर माल स्टॉक में हैं। या यह 15-30 दिनों का है अगर माल स्टॉक में नहीं है, तो यह मात्रा के अनुसार है।

प्रश्न: क्या आप नमूने प्रदान करते हैं? यह मुफ़्त है या अतिरिक्त?
एक: हाँ, हम मुक्त प्रभार के लिए नमूना पेश कर सकता है, लेकिन माल ढुलाई की लागत का भुगतान नहीं करते हैं।
प्रश्न: आपके भुगतान की शर्तें क्या हैं?

एक: भुगतान <= 1000 usd, अग्रिम में 100% है। भुगतान> = 1000USD, 50% टी / टी अग्रिम में, shippment से पहले संतुलन।

उत्पाद श्रेणियाँ : सिलिकॉन नाइट्राइड सिरेमिक > सिलिकॉन नाइट्राइड सिरेमिक डिस्क

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